Тенденция технологического развития целевых материалов тесно связана с тенденцией развития технологии тонкой пленки в нисходящих прикладных отраслях. Поскольку индустрия приложений улучшает свои технологии в продуктах или компонентах с тонкими пленками, целевые технологии также должны меняться соответствующим образом.
Цели с высокой чистотой чистоты титанаЯвляются ли источники расщепления, которые образуют различные функциональные тонкие пленки на подложках с использованием магнитронного распыления, мульти - ионного покрытия или других систем покрытия в соответствующих условиях процесса. Проще говоря, цель - это целевой материал для High - Скорость энергетических частиц для бомбардировки. В High - энергетическое лазерное оружие, лазеры различной плотности мощности, выходных сигналов и длина волн взаимодействуют с различными целевыми материалами, что приводит к различному повреждению и разрушительному эффектам. Например, испарительные магнетронные размахивающие отложения пленок путем нагрева и испаряющихся алюминиевых пленок. Заменив целевые материалы (такие как алюминий, медь, нержавеющая сталь, титана и никель), могут быть созданы различные пленки, включая Ultra - жесткие, износ- устойчивые и коррозию - устойчивые пленки из следования.
Сегодня мы изучим определение и применение титановых целей:
1) Принцип магнетронного распыления:
Перпендикулярное магнитное и электрическое поле применяется между целью (катод) и анодом. Высокая вакуумная камера заполнена желаемым инертным газом (обычно AR). Постоянный магнит генерирует магнитное поле 250 - 350 Гаус на целевой поверхности, образуя ортогональное электромагнитное поле с высоким электрическим полем напряжения. Под влиянием электрического поля газ AR ионизируется на положительные ионы и электроны. Определенное отрицательное высокое напряжение применяется к цели. Магнитное поле и рабочее газ увеличивают вероятность ионизации электронов, излученных из цели, образуя высокую плазму плотности- вблизи катода. Ионы AR ускоряются в направлении поверхности цели силой Лоренца, бомбардируя его на высокой скорости. Это заставляет разбрызгиваемые атомы на мишени отрываться от целевой поверхности с высокой кинетической энергией, следуя принципу переноса импульса, и полететь к субстрату, чтобы сформировать пленку. Магнетроновое распыление обычно делится на два типа: распыление постоянного тока и расщепление радиочастотного распыления. Оборудование DC Sputtering в принципе проще и предлагает более быстрые скорости разрыва для металлов. Радиочастотное распыление имеет более широкий спектр приложений. Он может размахивать не только проводящими материалами, но и не проводящими материалами. Он также может выполнять реактивную распыление для приготовления составных материалов, таких как оксиды, нитриды и карбиды. Если частота радиочастоты увеличивается, она становится микроволновой плазменной распылкой. Электронный циклотронный резонанс (ECR) Микроволновый плазменный распыление плазмы обычно используется сегодня.
2) Мрака магнетрона распадана
Types: Metal Sputtering Coating Targets, Alloy Sputtering Coating Targets, Ceramic Sputtering Coating Targets, Boride Ceramic Sputtering Targets, Carbide Ceramic Sputtering Targets, Fluoride Ceramic Sputtering Targets, Nitride Ceramic Sputtering Targets, Oxide Ceramic Sputtering Targets, Selenide Ceramic Sputtering Targets, Silicide Ceramic Sputtering Targets, Sulfide Керамические разбрызгивающие мишени, теллуридные целевые изделия, другие керамические мишени, хром - легированные кремниевые монооксидные керамические мишени (Cr - SIO), целевые мишени для индейского фосфида (inp), целевые арсенид -арсенида (PBAS), индейские арсенид (inAS).
Выберите Baoji Reliab Metal для ваших потребностей в титановых продуктах.
Если вы ищете титановые материалы, такие как титановые пластины, стержни, трубки, провода и обработанные детали титана, металл Baoji Veliab - это ваш - остановить поставщик. Мы поставляем высококачественные титановые продукты с быстрой доставкой и 24 - часов продаж и услуг после продажи.
Свяжитесь с нами, как ниже: Информация:
Baoji Veliab Metal Materials Co., Ltd
Тел: +86-917-8883215
Мобильный: +8613092900605
+8613092913521
E - mail: garychen3215@hotmail.com
